任職要求:【半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗】
1、本科及以上學(xué)歷,有工科背景,半導(dǎo)體、微電子、材料、物理、化學(xué)、電子等相關(guān)專業(yè)優(yōu)先;
2、5年以上晶圓減薄研磨經(jīng)驗,CMP經(jīng)驗、半導(dǎo)體清洗、鍵合等工藝經(jīng)驗;
3、有壓電薄膜晶圓SOI,POI材料經(jīng)驗優(yōu)先。
一、減薄工藝
1、制定、維護(hù)及優(yōu)化研磨工序標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)流程;
2.完成新產(chǎn)品導(dǎo)入,設(shè)置新產(chǎn)品研磨工序,完成相關(guān)材料的選型和備用,監(jiān)控產(chǎn)品良率并持續(xù)優(yōu)化;
3,及時處理產(chǎn)線異常情況,調(diào)查分析原因并改善,預(yù)防再發(fā)生;
4、進(jìn)行新機(jī)臺的驗收及放行;
5、支持客戶稽核,應(yīng)對現(xiàn)場問題,根據(jù)要求完善研磨工藝流程,完成相關(guān)報告。
二、清洗工藝
1.制定并監(jiān)控生產(chǎn)過程中技術(shù)問題的方案,分析,跟進(jìn),調(diào)整工藝方案及優(yōu)化現(xiàn)場操作;
2.探索完善現(xiàn)有工藝配方制定方法,細(xì)化工程能力指標(biāo)與制程參數(shù)的對應(yīng)關(guān)系,進(jìn)行新藝配方的開發(fā);
3.根據(jù)設(shè)備運(yùn)行數(shù)據(jù)、工藝參數(shù)運(yùn)行監(jiān)控數(shù)據(jù),探索設(shè)備運(yùn)行邊界,工作參數(shù)運(yùn)行邊界,設(shè)定設(shè)備、工藝參數(shù)標(biāo)準(zhǔn);
4、提升產(chǎn)品良率和生產(chǎn)效率。
三、CMP
1、負(fù)責(zé)機(jī)臺CMP工藝的調(diào)試、改進(jìn)、新工藝開發(fā)以及日常設(shè)備維護(hù);
2、進(jìn)行新設(shè)備的工藝及可靠性調(diào)試,并開發(fā)出適合于穩(wěn)定量產(chǎn)的工藝;
3、負(fù)責(zé)制定工藝調(diào)試實驗計劃并能如期完成;
4、配合質(zhì)量部和市場部,進(jìn)行客戶在使用產(chǎn)品過程中出現(xiàn)問題的調(diào)查,及時解決客戶端出現(xiàn)的問題。