職位描述
光刻工藝曝光工藝MASK制造電子/半導(dǎo)體/集成電路
崗位職責(zé):
1、曝光工藝開發(fā)與優(yōu)化：
- 主導(dǎo)FMM黃光制程中的曝光工藝開發(fā)、優(yōu)化與量產(chǎn)導(dǎo)入，聚焦接觸式/接近式曝光技術(shù)。
- 精通曝光參數(shù)（能量、焦距、間隙Gap、對準(zhǔn)精度、照明均勻性等）對CD、CDU、OVL的影響機理，設(shè)計并執(zhí)行DOE實驗進(jìn)行精細(xì)化調(diào)優(yōu)。
- 優(yōu)化掩膜版（Reticle/Mask）管理及使用策略，減少因掩膜版導(dǎo)致的曝光缺陷和偏差。
- 探索并評估新型曝光技術(shù)或方案在FMM應(yīng)用中的潛力。
- 2、曝光設(shè)備工藝能力維護(hù)與提升：
- 深入理解接觸式/接近式曝光機（如SUSS MA/BA系列、EVG或其他同類設(shè)備）的工作原理、構(gòu)造及性能極限。
- 負(fù)責(zé)曝光設(shè)備的工藝能力（Cp/Cpk）評估、監(jiān)控（SPC）與持續(xù)提升。
- 主導(dǎo)或深度參與曝光機的日常工藝維護(hù)、校準(zhǔn)（如光強均勻性校準(zhǔn)、焦距校準(zhǔn)、對準(zhǔn)系統(tǒng)校準(zhǔn)）及穩(wěn)定性驗證。
- 與設(shè)備工程師緊密合作，診斷并解決曝光設(shè)備硬件故障或性能下降對工藝造成的影響，提出有效的改善措施和預(yù)防性維護(hù)（PM）優(yōu)化建議。
3、曝光相關(guān)缺陷分析與良率提升：
- 主導(dǎo)解決由曝光環(huán)節(jié)引起的各類缺陷和良率問題（如：CD偏差過大、CDU不良、套刻不良、曝光不良（Underexposure/Overexposure）、圖形畸變、沾污、牛頓環(huán)等）。
- 運用8D、魚骨圖等工具進(jìn)行根本原因分析（RCA），制定并落實CAPA。
4、工藝整合與跨部門協(xié)作：
- 與涂膠（Coating）、顯影（Development）等前/后道工藝工程師緊密協(xié)作，確保整個黃光制程的匹配性與穩(wěn)定性，特別關(guān)注膠厚均勻性、前烘/后烘條件對曝光效果的影響。
- 與量測（Metrology）團(tuán)隊合作，優(yōu)化曝光關(guān)鍵參數(shù)的監(jiān)控方案（如在線/離線CD量測、OVL量測）。
- 為新設(shè)備選型、驗收提供工藝角度的專業(yè)評估和建議。
5、文檔、培訓(xùn)與新技術(shù)：
- 建立、維護(hù)和更新曝光工藝的SOP、控制計劃及技術(shù)文檔。
- 對生產(chǎn)和技術(shù)人員進(jìn)行曝光工藝原理、操作規(guī)范及問題處理的基礎(chǔ)培訓(xùn)。
- 跟蹤曝光技術(shù)領(lǐng)域的新發(fā)展（設(shè)備、材料、方法）。
6、完成領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他相關(guān)工作事項。
任職要求 :
1、教育背景：
- 本科及以上學(xué)歷，微電子、光學(xué)工程、物理、精密儀器、機械工程、材料科學(xué)與工程、自動化等相關(guān)專業(yè)優(yōu)先。
2、工作經(jīng)驗：
- 5年及以上半導(dǎo)體、顯示面板（OLED FMM 經(jīng)驗尤佳）、MEMS或高精度光刻行業(yè)的黃光/光刻工藝經(jīng)驗。
- 必須具備3年以上深度接觸/接近式曝光工藝開發(fā)、優(yōu)化及設(shè)備維護(hù)的實戰(zhàn)經(jīng)驗。 有FMM行業(yè)曝光經(jīng)驗者高度優(yōu)先。
- 有主導(dǎo)或深度參與曝光相關(guān)良率提升項目的成功案例。
3、核心技能 (曝光重點)：
- 精通曝光原理與技術(shù)： 深刻理解接觸式/接近式曝光的光學(xué)原理（柯勒照明、部分相干性、衍射效應(yīng)等）、成像機理及其在FMM圖形化中的應(yīng)用。
- 曝光設(shè)備專家級能力：
- 熟練掌握主流接觸式/接近式曝光機（如SUSS MA/BA, EVG等）的操作、日常工藝維護(hù)、校準(zhǔn)（光強、焦距、對準(zhǔn)）及故障排查。
- 深入理解設(shè)備關(guān)鍵模塊（光源系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)、聚焦系統(tǒng)、掩膜臺/晶圓臺、控制系統(tǒng)）及其對工藝的影響。
- 具備基礎(chǔ)的設(shè)備硬件知識，能與設(shè)備工程師有效溝通。
- 參數(shù)優(yōu)化與數(shù)據(jù)分析： 精通曝光參數(shù)（Energy, Focus, Gap等）優(yōu)化方法；熟練運用DOE、SPC、FMEA等工具進(jìn)行數(shù)據(jù)分析和工藝控制。
- 精密量測與缺陷分析： 熟悉CD-SEM、OVL量測設(shè)備、顯微鏡等在曝光工藝評估中的應(yīng)用；具備較強的缺陷識別和根源分析能力。
- 掩膜版知識： 了解掩膜版制作、使用、維護(hù)及其對曝光質(zhì)量的影響。
4、軟技能：
- 出色的分析問題、解決問題能力和嚴(yán)謹(jǐn)?shù)倪壿嬎季S。
- 優(yōu)秀的溝通協(xié)調(diào)能力、團(tuán)隊合作精神和責(zé)任心。
- 積極主動，能承受壓力，具備良好的動手能力和現(xiàn)場快速響應(yīng)能力。
5、語言能力：
- 流利中文。
- 能閱讀英文設(shè)備手冊、技術(shù)資料。
6、身體健康，無犯罪記錄。
優(yōu)先考慮條件
- OLED FMM行業(yè)曝光工藝經(jīng)驗。
- 擁有特定品牌曝光機（如SUSS, EVG）的深度操作、維護(hù)或工藝支持經(jīng)驗。
- 熟悉激光干涉儀等精密測量儀器在曝光機校準(zhǔn)中的應(yīng)用。
- 了解光刻膠特性及其與曝光工藝的交互作用。
- 有曝光設(shè)備供應(yīng)商技術(shù)支持或設(shè)備工程師背景者。
- 熟悉AutoCAD或相關(guān)繪圖軟件用于簡單版圖查看或問題分析。
工作地點
南譙區(qū)拓維光電材料(滁州)有限公司
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職位發(fā)布者
張雨/人事
昨日活躍立即溝通
成都拓維高科光電科技有限公司
成都拓維成立于2017年，翰博高新全資子公司，為客戶提供OLED Mask服務(wù)，實現(xiàn)國內(nèi)現(xiàn)地配套，填補國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈空白。一期清洗業(yè)務(wù)提供精密再生服務(wù)，一期CMM制造業(yè)務(wù)提供CMM制造服務(wù)，二期規(guī)劃FMM制造業(yè)務(wù)和CMM擴(kuò)產(chǎn)，以及G8.6代線OLED用金屬掩膜研發(fā)制造和清洗業(yè)務(wù)。OLED Mask精密再生是首個翰博集團(tuán)戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型半導(dǎo)體顯示材料的項目。翰博?新為深交所創(chuàng)業(yè)板上市企業(yè)，自2009年誕生便始終專注于半導(dǎo)體顯示科技，致力于為半導(dǎo)體顯示行業(yè)提供系統(tǒng)解決方案，是一家集顯示設(shè)計、光學(xué)開發(fā)、半導(dǎo)體顯示材料、智能制造、供應(yīng)鏈整合于一身的系統(tǒng)方案供應(yīng)商；擁有合肥、滁州、重慶、成都、廣州五大制造基地；翰博高新歷經(jīng)數(shù)年穩(wěn)健發(fā)展，擁有導(dǎo)光板和RTP等重要技術(shù)工藝，現(xiàn)已研發(fā)設(shè)計出光模組、偏光片、光學(xué)膜材等多款產(chǎn)品，被廣泛應(yīng)用于通訊、汽車、影音、電腦等領(lǐng)域的半導(dǎo)體顯示終端，擁有強大的自主技術(shù)研發(fā)能力，為人們的工作與生活帶來完美的視覺享受。拓維光電材料（滁州）有限公司是成都拓維全資子公司，成立于2022年5月，是一家專注于OLED顯示關(guān)鍵原材FMM（精密金屬掩膜版）研發(fā)與制造并提供Mask解決方案的高新科技企業(yè)。公司以成為行業(yè)首選合作伙伴為愿景，以產(chǎn)業(yè)報國、科技創(chuàng)新為使命，致力于打破國外技術(shù)壟斷，實現(xiàn)FMM國產(chǎn)化，成為行業(yè)領(lǐng)先者。
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