一、崗位職責(zé)
1、負(fù)責(zé)第三代和第四代半導(dǎo)體CMP拋光液的研發(fā)工作;
2、調(diào)研相關(guān)領(lǐng)域的文獻(xiàn)資料,掌握技術(shù)的發(fā)展方向與趨勢(shì);
3、撰寫(xiě)相關(guān)專(zhuān)利和產(chǎn)品生產(chǎn)操作規(guī)程。
二、任職要求
1、碩士及以上學(xué)歷,化學(xué)、精密加工或微電子生產(chǎn)濕法工藝專(zhuān)業(yè);
2、理解半導(dǎo)體研發(fā)、生產(chǎn)中CMP,Plating,Wet etch, Cleaning, Stripping, Liftoff工藝者優(yōu)先;
3、有過(guò)半導(dǎo)體CMP拋光液,Post CMP 清洗液和光刻膠剝離液的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。