公司簡(jiǎn)介：

　　廣州微納光刻材料科技有限公司創(chuàng)立于2020年，是廣東省內(nèi)唯一一家專業(yè)開(kāi)發(fā)90nm-55nm制程高端半導(dǎo)體芯片制造用193nm光刻膠及相關(guān)材料的高科技公司，為中芯國(guó)際、廣州粵芯公司等客戶定制光刻膠。
　　本公司的ArF國(guó)產(chǎn)光刻膠研發(fā)項(xiàng)目始于2016年，創(chuàng)始人首先在珠海橫琴創(chuàng)立的光刻膠樹(shù)脂公司自主研發(fā)，配方在上海、北京等地的客戶生產(chǎn)線的ASML光刻機(jī)上（90nm、65nm、55nm）進(jìn)行了大量的評(píng)估，其ArF光刻膠的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)，如DOF等，已超過(guò)現(xiàn)有頭部梯隊(duì)商用產(chǎn)品，在國(guó)內(nèi)處于領(lǐng)先地位?？偛吭O(shè)立于廣州南沙區(qū)，并在珠海、上海設(shè)有研發(fā)中心和實(shí)驗(yàn)室。

團(tuán)隊(duì)簡(jiǎn)介：

　　技術(shù)團(tuán)隊(duì)以原英特爾出身的博士為核心，進(jìn)行光刻膠材料研發(fā)；有和博士合作多年的日本資深光刻膠工藝技術(shù)專家，負(fù)責(zé)生產(chǎn)工藝和質(zhì)量管控；兩位原中芯國(guó)際光刻部門(mén)的光刻專家負(fù)責(zé)曝光評(píng)估和市場(chǎng)策劃；核心成員在光刻膠材料開(kāi)發(fā)和應(yīng)用方面擁有豐富經(jīng)驗(yàn)；團(tuán)隊(duì)中有資深財(cái)務(wù)和法務(wù)顧問(wèn)，負(fù)責(zé)風(fēng)險(xiǎn)管理；運(yùn)營(yíng)模式按照國(guó)際光刻膠和半導(dǎo)體公司進(jìn)行；公司已選定浙江嘉興與廣東新豐工廠兩座符合安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的工廠進(jìn)行代工生產(chǎn)，嚴(yán)格按照SPC進(jìn)行生產(chǎn)和質(zhì)量管理。

產(chǎn)品介紹：

　　廣微納公司已經(jīng)注冊(cè)“納刻”商標(biāo)，形成了納刻系列的光刻膠產(chǎn)品。本公司光刻膠技術(shù)100%在本土研發(fā)，具有完全的自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。其中在ArF光刻膠系列，有性能優(yōu)異的ArF干法光刻膠。經(jīng)過(guò)中芯北京55 nm 節(jié)點(diǎn)產(chǎn)線評(píng)測(cè)，結(jié)果為DOF大于300 nm@ 81 nm L/S，優(yōu)于現(xiàn)有商用ArF干法光刻膠。
原材料方面：公司對(duì)產(chǎn)品中使用的ArF感光樹(shù)脂和光敏劑的專利技術(shù)擁有使用權(quán)。所有光刻膠原材料由珠海公司專供，保證了排他性的競(jìng)爭(zhēng)力。

專利介紹：

　　ArF光刻膠中國(guó)發(fā)明專利2項(xiàng)，覆蓋了90nm-55nm的線型光刻膠和孔洞型光刻膠的配方，于2021年3月取得了“一種能夠用于90~60nm半導(dǎo)體制程的ArF光刻膠及其制備方法于應(yīng)用”專利授權(quán)，專利號(hào)ZL 201910388389.4

公司發(fā)展現(xiàn)狀及規(guī)劃：

　　廣微納公司現(xiàn)已具備一定資本規(guī)模和專利技術(shù)水平，實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠的開(kāi)發(fā)、國(guó)產(chǎn)替代，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。目前，公司ArF光刻膠加侖樣品正提供客戶進(jìn)行測(cè)試。 未來(lái)公司產(chǎn)品技術(shù)將為半導(dǎo)體客戶進(jìn)行量身定制，以提高良率和拓寬工藝窗口為目的，為客戶提供高性能的光刻膠。