公司簡介：

　　廣州微納光刻材料科技有限公司創(chuàng)立于2020年，是廣東省內(nèi)唯一一家專業(yè)開發(fā)90nm-55nm制程高端半導體芯片制造用193nm光刻膠及相關材料的高科技公司，為中芯國際、廣州粵芯公司等客戶定制光刻膠。
　　本公司的ArF國產(chǎn)光刻膠研發(fā)項目始于2016年，創(chuàng)始人首先在珠海橫琴創(chuàng)立的光刻膠樹脂公司自主研發(fā)，配方在上海、北京等地的客戶生產(chǎn)線的ASML光刻機上（90nm、65nm、55nm）進行了大量的評估，其ArF光刻膠的關鍵技術指標，如DOF等，已超過現(xiàn)有頭部梯隊商用產(chǎn)品，在國內(nèi)處于領先地位。總部設立于廣州南沙區(qū)，并在珠海、上海設有研發(fā)中心和實驗室。

團隊簡介：

　　技術團隊以原英特爾出身的博士為核心，進行光刻膠材料研發(fā)；有和博士合作多年的日本資深光刻膠工藝技術專家，負責生產(chǎn)工藝和質(zhì)量管控；兩位原中芯國際光刻部門的光刻專家負責曝光評估和市場策劃；核心成員在光刻膠材料開發(fā)和應用方面擁有豐富經(jīng)驗；團隊中有資深財務和法務顧問，負責風險管理；運營模式按照國際光刻膠和半導體公司進行；公司已選定浙江嘉興與廣東新豐工廠兩座符合安全生產(chǎn)標準的工廠進行代工生產(chǎn)，嚴格按照SPC進行生產(chǎn)和質(zhì)量管理。

產(chǎn)品介紹：

　　廣微納公司已經(jīng)注冊“納刻”商標，形成了納刻系列的光刻膠產(chǎn)品。本公司光刻膠技術100%在本土研發(fā)，具有完全的自主知識產(chǎn)權(quán)。其中在ArF光刻膠系列，有性能優(yōu)異的ArF干法光刻膠。經(jīng)過中芯北京55 nm 節(jié)點產(chǎn)線評測，結(jié)果為DOF大于300 nm@ 81 nm L/S，優(yōu)于現(xiàn)有商用ArF干法光刻膠。
原材料方面：公司對產(chǎn)品中使用的ArF感光樹脂和光敏劑的專利技術擁有使用權(quán)。所有光刻膠原材料由珠海公司專供，保證了排他性的競爭力。

專利介紹：

　　ArF光刻膠中國發(fā)明專利2項，覆蓋了90nm-55nm的線型光刻膠和孔洞型光刻膠的配方，于2021年3月取得了“一種能夠用于90~60nm半導體制程的ArF光刻膠及其制備方法于應用”專利授權(quán)，專利號ZL 201910388389.4

公司發(fā)展現(xiàn)狀及規(guī)劃：

　　廣微納公司現(xiàn)已具備一定資本規(guī)模和專利技術水平，實現(xiàn)ArF光刻膠的開發(fā)、國產(chǎn)替代，填補國內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。目前，公司ArF光刻膠加侖樣品正提供客戶進行測試。 未來公司產(chǎn)品技術將為半導體客戶進行量身定制，以提高良率和拓寬工藝窗口為目的，為客戶提供高性能的光刻膠。