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崗位要求 1. 負(fù)責(zé)光學(xué)系統(tǒng)（含幾何光學(xué)與波動光學(xué)）的設(shè)計仿真與方案評估，并針對使用場景設(shè)計及構(gòu)建光學(xué)系統(tǒng)光路；與光機(jī)、電子及算法工程師緊密配合，實現(xiàn)系統(tǒng)性能； 2. 負(fù)責(zé)精密光學(xué)測量與檢測系統(tǒng)的原理設(shè)計和模型仿真/誤差分析，運用幾何/干涉光學(xué)等原理從事光波前誤差、光器件面型高精密檢測等核心技術(shù)研究和檢測平臺開發(fā)； 3. 負(fù)責(zé)光電力磁熱等多物理場仿真解決實際工程設(shè)計問題，將復(fù)雜現(xiàn)象簡化為可解的模型，并保留主要的物理過程，和實驗對接，評估并驗證模型及參數(shù)的準(zhǔn)確性； 4. 負(fù)責(zé)超精密納米制造技術(shù)，包括納米光學(xué)增材制造、等離子體射流/離子束表面納米結(jié)構(gòu)制造技術(shù)、干刻/濕刻技術(shù)等；負(fù)責(zé)超精密微納光學(xué)器件的表征與檢測； 專業(yè)要求 1、光學(xué)/微納光學(xué)/激光/物理/光電等相關(guān)專業(yè)，具備深厚干涉光學(xué)、幾何光學(xué)、物理光學(xué)、微納光學(xué)等理論基礎(chǔ)； 2、 具有光學(xué)元件及系統(tǒng)設(shè)計、仿真、加工、組裝、以及測試等產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗，或相關(guān)課題研究經(jīng)驗； 3、具有微納結(jié)構(gòu)設(shè)計、制造、表征等產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗，或相關(guān)課題經(jīng)驗； 4、具有半導(dǎo)體精密設(shè)計或量測相關(guān)開發(fā)經(jīng)驗，主持過精密光學(xué)精密系統(tǒng)設(shè)計開發(fā)，精通光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu)，了解產(chǎn)業(yè)鏈情況。