崗位職責:
1. 開發(fā)光刻仿真核心算法(如光源優(yōu)化、掩模修正、工藝窗口分析等),提升模型精度與計算效率;
2. 結合機器學習/深度學習技術,優(yōu)化傳統(tǒng)光刻模型(如OPC、ILT、SRAF生成算法);
3. 針對先進工藝開發(fā)多物理場耦合仿真模型;
4. 基于實際晶圓數據驗證算法效果,輸出工藝改進方案。
任職要求:
1. 計算機科學、應用數學、光學工程、微電子等相關專業(yè)碩士及以上學歷;博士優(yōu)先,有光刻仿真、計算光學方向研究經歷者優(yōu)先;
2. 精通C++/Python編程,熟悉Linux開發(fā)環(huán)境及并行計算框架(MPI/OpenMP);
3. 掌握數值計算(FFT、PDE求解)、優(yōu)化算法(梯度下降、遺傳算法)及機器學習框架(TensorFlow/PyTorch);
4. 具備優(yōu)秀的英文文獻閱讀能力及技術文檔撰寫能力;
5. 能適應跨部門協(xié)作,具備解決復雜工程問題的耐心與抗壓能力。