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1. 負(fù)責(zé)裸眼3D顯示技術(shù)的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與研發(fā)，包括光柵結(jié)構(gòu)、透鏡陣列等核心光學(xué)元件設(shè)計(jì)； 2. 負(fù)責(zé)光學(xué)方案仿真、數(shù)據(jù)分析，樣機(jī)驗(yàn)證及性能調(diào)優(yōu)，確保FOV、串?dāng)_、亮度等關(guān)鍵指標(biāo)達(dá)標(biāo)； 3. 主導(dǎo)裸眼3D光學(xué)模組的成像質(zhì)量分析，解決光場(chǎng)均勻性、串?dāng)_、視點(diǎn)分布等技術(shù)難點(diǎn)； 4. 負(fù)責(zé)光學(xué)器件對(duì)準(zhǔn)貼合的系統(tǒng)標(biāo)定方法； 5. 編寫光學(xué)設(shè)計(jì)文檔、測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)及生產(chǎn)工藝指導(dǎo)文件。 6. 跟蹤光場(chǎng)顯示、全息技術(shù)等前沿方向，輸出技術(shù)分析報(bào)告 。 任職要求 1. 光學(xué)工程、物理電子、精密儀器、應(yīng)用物理等相關(guān)專業(yè)碩士及以上學(xué)歷； 2. 精通幾何光學(xué)，熟悉光柵衍射、透鏡成像、視差原理、波動(dòng)光學(xué)理論等； 3. 熟練使用至少一種光學(xué)設(shè)計(jì)（MatLab，Zemax、LightTools ）仿真軟件； 4. 熟悉微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件（如柱狀透鏡、納米光柵）的設(shè)計(jì)與加工工藝（如納米壓印、光刻）； 5. 對(duì)摩爾紋成因有系統(tǒng)性分析，研究過多種方法來降低或者減弱摩爾紋。 熟悉離散傅里葉變換的原理，以及在多領(lǐng)域使用該方法進(jìn)行頻域變換。掌握光學(xué)材料特性數(shù)據(jù)庫(kù)（折射率/阿貝數(shù)/熱膨脹系數(shù)）的工程化應(yīng)用。 6. 具備3年以上裸眼3D顯示、光場(chǎng)顯示等光學(xué)系統(tǒng)開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，有量產(chǎn)項(xiàng)目落地案例者優(yōu)先； 7. 具備較強(qiáng)的數(shù)學(xué)建模與仿真能力，能獨(dú)立完成光學(xué)系統(tǒng)性能分析；對(duì)技術(shù)細(xì)節(jié)敏感，善于通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證與數(shù)據(jù)迭代優(yōu)化設(shè)計(jì)； 8. 良好的跨團(tuán)隊(duì)溝通能力及項(xiàng)目管理意識(shí)，適應(yīng)快節(jié)奏研發(fā)環(huán)境。