崗位描述:
1.光刻制程條件設(shè)定與優(yōu)化
2.異常產(chǎn)品分析、處理與 Hold Rate/Time 改善
3.維護(hù)光刻工藝質(zhì)量,提升產(chǎn)品良率
4.SPC 建立、管理與 Cpk 改善
5.提升產(chǎn)能,降低生產(chǎn)周期與制造成本
任職要求:
1. 碩士學(xué)歷及以上,物理,光學(xué),材料等理工類相關(guān)專業(yè)
2. 三年以上半導(dǎo)體光刻(KrF, ArF)制程工作經(jīng)驗(yàn), 有DRAM制程相關(guān)工作經(jīng)驗(yàn)