拓荊科技股份有限公司簡介
拓荊科技股份有限公司（以下簡稱“拓荊公司”或 “公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整體變更為股份有限公司。公司總部位于遼寧省沈陽市渾南區(qū)，并在北京、上海、海寧成立三家子公司。公司主要從事高端半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。公司多次承擔國家重大科技專項，被中國半導體行業(yè)協(xié)會評為2016年度、2017年度、2019年度“中國半導體設備五強企業(yè)”。
公司主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產(chǎn)品系列，技術指標達到國際同類產(chǎn)品先進水平，產(chǎn)品主要應用于集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等高端技術領域。目前，公司研發(fā)的PECVD、ALD及SACVD設備系列化產(chǎn)品已累計發(fā)貨超150臺，客戶端總流片量突破1500萬片。公司產(chǎn)品獲得兩屆中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟的IC技術創(chuàng)新獎、遼寧省科技進步一等獎等榮譽。
公司現(xiàn)有十余名海外高層次專家，結合國內優(yōu)秀人才，形成了一支國際化的專業(yè)團隊，具備高科技研發(fā)實力及管理經(jīng)驗，目前，公司員工總數(shù)超350人（含子公司）。通過多年技術積累，公司已形成自主知識產(chǎn)權體系，被國家知識產(chǎn)權局評為“國家知識產(chǎn)權示范企業(yè)(2019-2022)”。
公司總部占地80畝、總建筑面積達40,000平方米，擁有現(xiàn)代化辦公大樓及高等級潔凈廠房、先進和完備的無塵實驗室及系列高端薄膜實驗設備，用以研制和生產(chǎn)科技領先的半導體薄膜設備。公司產(chǎn)業(yè)化基地第一期生產(chǎn)能力可實現(xiàn)年產(chǎn)100臺套，全部投產(chǎn)可達350臺套設備，可以滿足下游客戶增產(chǎn)需求。
公司擁有覆蓋全球的供應商網(wǎng)絡，并在北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區(qū)的近40條生產(chǎn)線都設有技術服務中心，可為客戶提供每周7天，每天24小時的技術服務。公司運營管理體系已通過ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證。
公司愿與業(yè)界伙伴建立真誠、友好、共贏的產(chǎn)業(yè)合作聯(lián)盟，共同為中國及世界半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻。